It should also be noted that during the chemical formulation of photolithography products, worker exposure potential is very low because the process occurs under highly automated, largely closed system conditions.
ينبغي ملاحظة أنه خلال التشكيل الكيميائي للمنتجات الليثوغرافية الضوئية، يكون احتمال تعرض العمال منخفضا جداً بسبب أن العملية تحدث تحت أوضاع نظام مؤتمتللغاية ومغلق بشكل كبير.